Korean Institute of Surface Engineering

pISSN : 1225-8024 | eISSN : 3399-8403


공학

a-C:H Films Deposited in the Plasma of Surface Spark Discharge at Atmospheric Pressure. Part I: Experimental Investigation

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[Chun, Hui-Gon;K.V. Oskomov;N.S. Sochungov;Lee, Jing-Hyuk;You, Yong-Zoo;]

School of Materials Science and Engineering, ReMM, University of Ulsan;Institute of High Current Electronics SD RAS;

한국표면공학회지, Vol. 36, No. 5, pp. 357-363.

DOI :

Fluxless Plasma Soldering with Different Thickness of UBM Layers on Si-Wafer
Si 웨이퍼의 UBM층 도금두께에 따른 무플럭스 플라즈마 솔더링

문준권;강경인;이재식;정재필;주운홍;
[;;;;;]

서울시립대학교 신소재공학과;University of Waterloo, 기계공학부;

한국표면공학회지, Vol. 36, No. 5, pp. 373-378.

DOI :

Surface morphology, Glossiness and Hardness of Zn-Cr and Zn-Cr-X ternary alloy Electrodeposits
고속도금된 Zn-Cr 및 Zn-Cr-X 3원합금 도금층의 표면조직, 광택도 및 경도

예길촌;김대영;서경훈;
[;;;]

영남대학교 재료금속공학부;

한국표면공학회지, Vol. 36, No. 5, pp. 379-385.

DOI :

Study on the Characteristics of Electroplated Solder: Comparison of Sn-Cu and Sn-Pb Bumps
무연 도금 솔더의 특성 연구: Sn-Cu 및 Sn-Pb 범프의 비교

정석원;정재필;
[;;]

서울시립대학교 신소재공학과;

한국표면공학회지, Vol. 36, No. 5, pp. 386-392.

DOI :

Study on Electroless Black Ni-Zn Plating Using Hydrazine as a Reducing Agent
히드라진에 의한 무전해 흑색 니켈-아연 합금 도금에 대한 연구

오영주;정원용;이만승;
[;;;]

한국과학기술연구원 금속공정연구센터;목포대학교 공과대학 신소재공학과;

한국표면공학회지, Vol. 36, No. 5, pp. 393-397.

DOI :

Effects of Ni Coating on the Surface Characteristics of Drawed Stainless Steel Wire
인발가공된 스테인리스강선의 표면특성에 미치는 Ni코팅의 영향

최한철;
[;]

조선대학교 치과대학 치과재료학교실 및 생체재료나노계면활성화센터;

한국표면공학회지, Vol. 36, No. 5, pp. 398-405.

DOI :

A Study on the Infrared Radiation Properties for SiO$_2$/Fe$_2$O$_3$Films Coated on aluminum
알루미늄에 코팅된 SiO$_2$/Fe$_2$O$_3$막의 적외선 복사특성에 관한 연구

강병철;김기호;
[;;]

한국건자재시험연구원;충북대학교 재료공학과;

한국표면공학회지, Vol. 36, No. 5, pp. 406-412.

DOI :

Dielectric, Pyroelectric and Piezoelectric Properties of 0.7PMN-0.3PT Ceramics Modified With Cr$_2$O$_3$

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[Hyun, June-Won;]

Department of Applied Physics, Dankook University;

한국표면공학회지, Vol. 36, No. 5, pp. 413-417.

DOI :

High Density Planar Inductively Coupled Plasma Etching of GaAs in BCl$_3$-based Chemistries
BCl$_3$ 기반 가스를 이용한 GaAs의 고밀도 평판형 유도결합 플라즈마 식각

임완태;백인규;유승열;이제원;조관식;전민현;;
[;;;;;;S.J. Pearton;]

인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소;
;Department of Materials Sci. and Eng., University of Florida

한국표면공학회지, Vol. 36, No. 5, pp. 418-422.

DOI :