Korean Institute of Surface Engineering

pISSN : 1225-8024 | eISSN : 3399-8403


공학

Tribological Behaviors Against Counterpart Materials of Ti-Si-N Coating Layers Prepared by a Hybrid Coating System
하이브리드 코팅시스템에 의해 제조된 Ti-Si-N 코팅막의 상대재에 대한 마모거동 연구

박옥남;박종현;윤석영;권식철;김광호;
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부산대학교 재료공학부;한국기계연구원 표면기술연구부;

한국표면공학회지, Vol. 36, No. 2, pp. 116-121.

DOI :

Characterization of Nanocomposite Ti-Si-N Films Prepared by a Hybrid Deposition System of A If and Sputtering Techniques
하이브리드 증착 시스템을 이용한 나노복합체 Ti-Si-N 박막의 특성 연구

윤순영;최성룡;이미혜;김광호;
[;;;;]

부산대학교 공과대학 재료공학부;기술신용보증기금 기술평가센터;

한국표면공학회지, Vol. 36, No. 2, pp. 122-127.

DOI :

High Temperature Oxidation of Ti-43%Al-2%W-0.1%Si Alloys
Ti-43%Al-2%W-0.1%Si 합금의 고온산화

심웅식;이동복;
[;;]

성균관대학교 금속재료공학부;

한국표면공학회지, Vol. 36, No. 2, pp. 128-134.

DOI :

A TEM Study on Growth Characteristics of GaN on Si(111) Substrate using MOCVD
Si(111) 기판 위에 MOCVD 법으로 성장시킨 GaN의 성장 특성에 관한 TEM 분석

신희연;정성훈;유지범;서수정;양철웅;
[;;;;;]

성균관대학교 금속ㆍ재료공학부;

한국표면공학회지, Vol. 36, No. 2, pp. 135-140.

DOI :

A Study on the Low Temperature Growth of SiC Film with a 1,3-DSB Precursor
단일전구체(1,3-DSB)에 의한 저온 SiC박막 성장에 관한 연구

양재웅;노대호;윤진국;김재수;
[;;;;]

대진대학교 신소재공학과;한국과학기술연구원;

한국표면공학회지, Vol. 36, No. 2, pp. 141-147.

DOI :

Pulsed Magnet ron Sputtering Deposit ion of DLC Films Part II : High-voltage Bias-assisted Deposition

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[Chun, Hui-Gon;Lee, Jing-Hyuk;You, Yong-Zoo;Ko, Yong-Duek;Cho, Tong-Yul;Nikolay S. Sochugov;]

School of Materials Science and Engineering, Remm, University of Ulsan;

한국표면공학회지, Vol. 36, No. 2, pp. 148-154.

DOI :

Effect of Electrolysis Conditions on Hard Chromium Deposition from Trivalent Chromium Bath
경질용 3가 크롬전착에 미치는 전해조건의 영향

김대영;박상언;김만;권식철;최주원;최용;
[Kim, Dae-Young;Park, Sang-Eon;Kim, Man;Kwon, Sik-Chul;Choi, Ju-Won;Choi, Yong;]

한국기계연구원 표면연구부;선문대학교 재료화학공학부;
Department of Surface Engineering, Korea Institute of Machinery & Materials;Department of Materials & Chemical Engineering, Sunmoon University;

한국표면공학회지, Vol. 36, No. 2, pp. 155-160.

DOI :

The Effect of Pulse Plating on the Current Efficiency in Trivalent Chromium Bath
3가크롬 도금욕에서 펄스도금조건이 전류효율에 미치는 영향

황경진;안종관;이만승;오영주;
[;;;;]

한국과학기술연구원 금속공정연구센터;한국지질자원연구원 자원활용연구부;목포대학교 공과대학 신소재공학과;

한국표면공학회지, Vol. 36, No. 2, pp. 161-167.

DOI :

The Study of Solderability according to Chemical Analysis in Plating Process
도금공정의 액 분석에 따른 Solderability 개선 연구

이준호;
[;]

삼성전기 MLCC사업부;

한국표면공학회지, Vol. 36, No. 2, pp. 168-175.

DOI :

Phase Transformations and Oxidation Properties of Fe$_{0.98}$Mn$_{0.02}$Si$_2$ Processed by Mechanical Alloying
기계적 합금화법에 의해 제조된 Fe$_{0.98}$Mn$_{0.02}$Si$_2$의 상변태와 산화특성

심웅식;이동복;어순철;
[;;;]

성균관대학교 플라즈마 응용 표면기술 연구센터;충주대학교 재료공학과;

한국표면공학회지, Vol. 36, No. 2, pp. 200-205.

DOI :

Effects of Plasma Nitriding on the Surface Characteristics of Tool Steels
공구강의 표면특성에 미치는 플라즈마 질화처리의 영향

이호종;최한철;
[;;]

순천대학교 금속공학과;조선대학교 치과대학 치과재료학교실;

한국표면공학회지, Vol. 36, No. 2, pp. 206-213.

DOI :

Underfill Technology
언더필 기술

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[;]

한국표면공학회지, Vol. 36, No. 2, pp. 214-225.

DOI :