Korean Institute of Surface Engineering

pISSN : 1225-8024 | eISSN : 3399-8403


공학

Characterization and Construction of Chemical Vapor Deposition by using Plasma
rf 플라즈마 화학기상증착기의 제작 및 특성

김경례;김용진;현준원;이기호;노승정;최병구;
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단국대학교 자연과학부 응용물리전공;단국대학교 사범학부 과학교육전공;

한국표면공학회지, Vol. 33, No. 2, pp. 69-76.

DOI :

Effect of fluorine doping and heat treatment for SnO$_2$ thin films on electrical properties
SnO$_2$박막의 전기적 특성에 미치는 불소 doping및 열처리 효과

류득배;이수완;박정일;박광자;
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선문대학교 재료공학과;기술표준원 무기화학과;

한국표면공학회지, Vol. 33, No. 2, pp. 87-92.

DOI :

Pitting Behavior of Ti/TiN Film Coated onto AISI 304 Stainless Steel
AISI 304 스테인리스강에 코팅된 Ti/TiN film의 공식거동

박지윤;최한철;김관휴;
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전남대학교 공과대학 금속공학과;광양대학 제철금속과;

한국표면공학회지, Vol. 33, No. 2, pp. 93-100.

DOI :

Development of Linear Annealing Method for Silicon Direct Bonding and Application to SOI structure
실리콘 직접 접합을 위한 선형가열법의 개발 및 SOI 기판에의 적용

이진우;강춘식;송오성;양철웅;
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서울대학교 재료공학부;시립대학교 재료공학과;성균관대학교 금속재료공학부;

한국표면공학회지, Vol. 33, No. 2, pp. 101-106.

DOI :

New Technique of Spatial Printing of Materials for Arbitrary Shape Forming
임의의 형상 성형을 위한 새로운 공간 직접 성형 기술

이일한;정용재;김창경;
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한양대학교 공과대학 재료공학부;한양대학교 응용화학공학부 세라믹공학과;

한국표면공학회지, Vol. 33, No. 2, pp. 107-114.

DOI :

A Study on the Characteristics of TiN film deposited using Reactive Magnetron Sputter ion Plating
Reactive Magnetron Sputter ion Plating법으로 증착된 TiN 박막의 특성에 관한 연구

이민구;김흥회;김선재;이창규;김영석;
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한국원자력연구소;

한국표면공학회지, Vol. 33, No. 2, pp. 115-125.

DOI :

A Study on Formation of Ni-Tl-P deposits by Electroless Plating
무전해도금에 의한 Ni-Tl-P 피막형성에 관한 연구

류일광;추현식;
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광주보건대학;조선대학교 공과대학 금속공학과;

한국표면공학회지, Vol. 33, No. 2, pp. 126-134.

DOI :

Effect of Silicon in Steels and Galvannealing Heat Cycles on Powdering Behavior of High Strength Galvannealed Steels
고강도 용융아연 도금강판의 파우더링 특성에 미치는 실리콘 및 합금화 열처리의 영향

이호종;오용택;김종상;
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순천대학교 공과대학 재료금속공학과;포항제철 기술연구소;

한국표면공학회지, Vol. 33, No. 2, pp. 135-144.

DOI :