Korean Institute of Surface Engineering

pISSN : 1225-8024 | eISSN : 3399-8403


공학

A study of the GaN etch properties using inductively coupled Cl$_2$-based plasmas
유도 결합형 Cl$_2$계 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성에 관한 연구

김현수;이재원;김태일;염근영;
[;;;;]

성균관대학교 재료공학과;삼성종합기술원 광반도체연구실;

한국표면공학회지, Vol. 32, No. 2, pp. 83-92.

DOI :

Investigation of the residue formed on the silicon exposed to $C_4$F$_8$ helicon wave plasmas
고선택비 산화막 식각공정시 $C_4$F$_8$ 헬리콘 웨이브 플라즈마에 노출된 실리콘 표면의 잔류막 관찰

김현수;이원정;염근영;
[;;;]

성균관대학교 재료공학과 반도체 공정 연구실;

한국표면공학회지, Vol. 32, No. 2, pp. 93-99.

DOI :

Microstructure and Corrosion Characteristics of Al-Si Diffusion Coated Ni Base Super alloy
Al-Si확산코팅에 따른 Ni기 초합금의 미세조직과 부식특성

안종천;김택수;윤동주;이경구;
[;;;;]

국방과학연구소;충남대학교 금속공학과;한려대학교 제철금속학과;

한국표면공학회지, Vol. 32, No. 2, pp. 100-108.

DOI :

Field Application of an Alternative Cleaning Agent to Methylene Chloride
Methylene Chloride의 대체세정제 적용 사례 연구

배재흠;신민철;이통영;조기수;
[;;;;]

수원대학교 화학공학과;삼성전기;삼성지구환경연구소;

한국표면공학회지, Vol. 32, No. 2, pp. 109-124.

DOI :

Electrical and Optical Properties of SnO$_2$: F Thin Films by Reactive DC Magnetron Sputtering Method
반응성 DC 마그네트론 스퍼터법에 의한 SnO$_2$ : F 박막의 전기광학적 특성

정영호;김영진;신재혁;송국현;신성호;박정일;박광자;
[;;;;;;;]

경기대학교 재료공학과;국립기술품질원;

한국표면공학회지, Vol. 32, No. 2, pp. 125-133.

DOI :

Effect of silicon on alloying behavior of hot-dip galvannealed steel sheets
합금화 용융아연 도금강판의 합금화 거동에 미치는 실리콘의 영향

이호종;김종상;
[;;]

순천대학교 공과대학 재료·금속공학과;포항제철(주) 기술연구소;

한국표면공학회지, Vol. 32, No. 2, pp. 134-143.

DOI :

A Study on the high Temperature Properties of the Graded Thermal Barrier Coatings by APS and PAS
APS법으로 제조된 열장벽 피막과 PAS법으로 제조된 열장벽 성형체의 고온 물성에 관한 연구

강현욱;권현옥;한주철;송요승;홍상희;허성강;김선화;
[;;;;;;;]

한국항공대학교 항공재료공학과;서울대학교;창원대학교;순천향대학교;

한국표면공학회지, Vol. 32, No. 2, pp. 144-156.

DOI :

Effect of Nickel Addition in Hot Dip Galvanizing of Mini-mill Steels Containing Silicon
실리콘을 함유한 미니밀 소재의 용융아연도금성에 미치는 니켈첨가의 영향

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[H. J., Lee;J. S., Kim;J. H., Chung;]

Dept. of Materials Science and Metallurgical Eng., Sunchon National University;Technical Research Laboratories, POSCO;

한국표면공학회지, Vol. 32, No. 2, pp. 157-164.

DOI :

Surface Reaction of Uranium Dioxide with CF$_4$/O$_2$ Mixture Gas Plasma
CF$_4$/O$_2$ 혼합기체 플라즈마를 이용한 이산화 우라늄의 표면식각반응

민진영;김용수;
[;;]

한양대학교 원자력공학과;

한국표면공학회지, Vol. 32, No. 2, pp. 165-171.

DOI :