Korean Institute of Surface Engineering

pISSN : 1225-8024 | eISSN : 3399-8403


공학

Metal-Organic Vapor Phase Epitaxy III. Atomic Layer Epitaxy
MOVPE 단결정층 성장법 III. 원자층 성장법

정원국;
[;]

성균관대학교 재료공학과;

한국표면공학회지, Vol. 23, No. 4, pp. 197-207.

DOI :

Plating Rate of Electroless Nikel-Copper-Phosphorus Plating and Change in Microhardness and Corrosion Rate depending on. Heat treatment
무전해 니켈-구리-인 도금의 도금속도와 열처리에 따른 경도 및 내삭성 변화

오이식;황용길;
[;;]

부산공업대학 금속공학과;동아대학교 공과대학 금속공학과;

한국표면공학회지, Vol. 23, No. 4, pp. 208-217.

DOI :

Silicon Nitride Thin Film Deposition Using ECR Plasma
ECR 플라즈마를 이용한 실리콘화박막증착

송선규;장홍영;
[;;]

한국과학기술원 물리학과;

한국표면공학회지, Vol. 23, No. 4, pp. 218-224.

DOI :

Outgassing Rate of Ultra(Extreme) High Vacuum Materials
초(극)고진공에서 진공재료의 기체방출

박종윤;
[;]

송균관대학교 물리학과;

한국표면공학회지, Vol. 23, No. 4, pp. 230-236.

DOI :